Didelio tikslumo laboratorinis nuolatinės srovės maitinimo šaltinis. Reguliuojamas nuolatinės srovės maitinimo šaltinis 6 V, 30 A, 180 W. Iliustracija.

Didelio tikslumo laboratorinis reguliuojamas nuolatinės srovės maitinimo šaltinis 6V 30A 180W

Produkto aprašymas:

GKD6-30CVC nuolatinės srovės maitinimo šaltinis yra kompaktiško dydžio ir lengvo, todėl jį galima pastatyti geresniam veikimui. Šis nuolatinės srovės maitinimo šaltinis gali būti naudojamas įvairiose laboratorijose ir bandymams.

Produkto dydis: 42 * 31 * 14,5 cm

Grynasis svoris: 5 kg

Siųskite mums el. laišką

Specifikacija
Maišytuvo tipas	Vonios kriauklės maišytuvai,
Įrengimo tipas	Centrinis rinkinys,
Montavimo skylės	Viena skylė,
Rankenų skaičius	Viena rankena,
Baigti	Ti-PVD,
Stilius	Šalis,
Srauto greitis	1,5 GPM (5,7 l/min.) maks.,
Vožtuvo tipas	Keraminis vožtuvas,
Šalto ir karšto jungiklis	Taip,
Matmenys
Bendras aukštis	240 mm (9,5 colio),
Snapelio aukštis	155 mm (6,1 colio),
Snapelio ilgis	160 mm (6,3 colio),
Maišytuvo centras	Viena skylė,
Medžiaga
Maišytuvo korpuso medžiaga	Žalvaris,
Maišytuvo snapelio medžiaga	Žalvaris,
Maišytuvo rankenos medžiaga	Žalvaris,
Informacija apie priedus
Vožtuvas įtrauktas	Taip,
Į komplektą įeina kanalizacija	Ne,
Svoriai
Grynasis svoris (kg)	0,99,
Siuntimo svoris (kg)	1.17,

Įvesties parametrai

Kintamosios srovės įvestis 220 V, 1 fazė
Išvesties parametrai

DC 0～6V 0~30A nuolat reguliuojamas
Išėjimo galia

180 W
Aušinimo metodas

Priverstinis oro aušinimas
Valdymo režimas

Vietinis valdymas
Ekrano rodymas

Skaitmeninis ekranas
Kelios apsaugos

OVP, OCP, OTP, SCP apsaugos
Individualus dizainas

Palaikykite OEM ir OEM
Išvesties efektyvumas

≥90%
Apkrovos reguliavimas

≤±1 % FS

Modelis ir duomenys

Modelio numeris	Išėjimo pulsacija	Dabartinis rodymo tikslumas	Voltų rodymo tikslumas	CC/CV tikslumas	Padidinimas ir sulėtinimas	Per didelis šaudymas
GKD6-30CVC	VPP≤0,5%	≤10 mA	≤10 mV	≤10mA/10mV	0~99S	No

Produkto pritaikymas

Nuolatinės srovės maitinimo šaltinis naudojamas tiriant galvaninius elementus, kuriuose vyksta redokso reakcijos.

Galvaninių ląstelių tyrimai

Tyrėjai gali naudoti nuolatinės srovės maitinimo šaltinius, kad ląstelei būtų tiekiama tam tikra įtampa, taip inicijuojant ir valdant reakciją. Stebėdami srovės srautą, jie gali tirti ląstelės kinetiką, efektyvumą ir kitas elektrochemines savybes.

Nuolatinės srovės maitinimo šaltiniai atlieka itin svarbų vaidmenį vandenilio kaupimo sistemose. Pavyzdžiui, tokiose sistemose elektros energija iš nuolatinės srovės maitinimo šaltinio gali būti naudojama elektros energijai paversti vandenilio dujomis, kurios vėliau gali būti suspaustos arba laikomos vandenilio talpyklose.

Vandenilio kaupimo sistemos
Nuolatinės srovės maitinimo šaltiniai maitina vandenilio gamybos įrangą, pavyzdžiui, kompresorius ir jonų mainų membraninius elektrolizerius. Šie įrenginiai naudoja nuolatinės srovės maitinimo šaltinių tiekiamą elektros energiją vandenilio dujų paruošimui ir apdorojimui.

Vandenilio gamybos įranga
Daugeliui jutiklių veikimui reikalingas stabilus ir patikimas maitinimo šaltinis. Nuolatinės srovės maitinimo šaltiniai tiekia reikiamą nuolatinę įtampą ir srovę jutikliams maitinti ir užtikrina tikslų bei nepertraukiamą jų veikimą.

Maitinimo jutikliai
Kai kurie jutikliai generuoja analoginius signalus, kuriuos prieš tolesnį apdorojimą reikia apdoroti. Nuolatinės srovės maitinimo šaltiniai naudojami signalų apdorojimo grandinėse, siekiant užtikrinti energiją stiprinimui, filtravimui ir kitoms signalų apdorojimo operacijoms.

Signalo apdorojimas